薄膜均勻性概念

1.厚度上的均勻性，也可以理解為粗糙度，在光學(xué)薄膜的尺度上看（也就是1/10波長作為單位，約為100A），真空鍍膜的均勻性已經(jīng)相當(dāng)好，可以輕松將粗糙度控制在可見光波長的1/10范圍內(nèi)，也就是說對(duì)于薄膜的光學(xué)特性來說，真空鍍膜沒有任何障礙。 但是如果是指原子層尺度上的均勻度，也就是說要實(shí)現(xiàn)10A甚至1A的表面平整，具體控制因素下面會(huì)根據(jù)不同鍍膜給出詳細(xì)解釋。擴(kuò)散泵的油蒸汽壓是決定泵的極限真空的重要因素，因此盡量選用飽和蒸汽壓低的泵油，其化學(xué)特性要好。

2.化學(xué)組分上的均勻性： 就是說在薄膜中，化合物的原子組分會(huì)由于尺度過小而很容易的產(chǎn)生不均勻特性，SiTiO3薄膜，如果鍍膜過程不科學(xué)，那么實(shí)際表面的組分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，鍍的膜并非是想要的膜的化學(xué)成分，這也是真空鍍膜的技術(shù)含量所在。 具體因素也在下面給出。在集成電路制造中晶體管路中的保護(hù)層（SiO2、Si3N4）、電極管線等，多是采用CVD技術(shù)、PVCD技術(shù)、真空蒸發(fā)金屬技術(shù)、磁控濺射技術(shù)和射頻濺射技術(shù)。

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多功能真空鍍膜機(jī)

真空鍍膜機(jī)工作時(shí)，需要先抽真空，使真空室處于真空狀態(tài)，再進(jìn)行鍍膜；鍍膜完成后，需要向真空室充氣。現(xiàn)有技術(shù)中，真空鍍膜機(jī)的充氣管道直接與外界連通，容易把外界空氣中的灰塵帶入真空室，導(dǎo)致鏡片上吸附灰塵，造成產(chǎn)品不良真空蒸渡金屬薄膜是在高真空條件下，以電阻、高頻或電子加熱使金屬熔融氣化，在薄膜基材的表面附著而形成復(fù)合薄膜，其中被鍍金屬材料用的1多的是鋁，在塑料薄膜或紙張表面鍍上一層極薄的金屬鋁即成為鍍鋁薄或鍍鋁紙，在鍍鋁薄膜生產(chǎn)過程中對(duì)于真空條件是有嚴(yán)格限定的，真空度過高或過低都會(huì)影響鍍膜的性能，目前，工廠里使用的鍍膜機(jī)對(duì)于真空度的控制并不是很穩(wěn)定，導(dǎo)致生產(chǎn)過程中產(chǎn)品的性能不夠穩(wěn)定，因此，解決生產(chǎn)過程中鍍膜機(jī)里的真空度不易控制的問題尤為重要，而且內(nèi)部鍍膜物件的溫度高，需要及時(shí)降溫，提高工作效率。第五，掌握檢漏儀器的反應(yīng)時(shí)刻和消除時(shí)刻，把時(shí)刻掌握好，確保檢漏儀器作業(yè)到位，時(shí)刻少了，檢漏作用必定差，時(shí)刻長了，糟蹋檢漏氣體和人工電費(fèi)。

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真空鍍膜設(shè)備真空泵的選擇

真空泵工作時(shí)產(chǎn)生的振動(dòng)對(duì)工藝過程及環(huán)境有無影響。若工藝過程不允許，應(yīng)選擇無振動(dòng)的泵或者采取防振動(dòng)措施。

了解被抽氣體成分，氣體中含不含可凝蒸氣，有無顆?；覊m，有無腐蝕性等。選擇真空泵時(shí)，需要知道氣體成分，針對(duì)被抽氣體選擇相應(yīng)的泵。如果氣體中含有蒸氣、顆粒、及腐蝕性氣體，應(yīng)該考慮在泵的進(jìn)氣口管路上安裝輔助設(shè)備，如冷凝器、除塵器等。

真空泵在其工作壓強(qiáng)下，應(yīng)能排走真空設(shè)備工藝過程中產(chǎn)生的全部氣體量。

真空設(shè)備對(duì)油污染的要求。若設(shè)備嚴(yán)格要求無油時(shí)，應(yīng)該選各種無油泵，如：水環(huán)泵、分子篩吸附泵、濺射離子泵、低溫泵等。如果要求不嚴(yán)格，可以選擇有油泵，加上一些防油污染措施，如加冷阱、障板、擋油阱等，也能達(dá)到清潔真空要求。